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Eclipse LV100DA-U – un microscope au design universel

nikon metrology industrial microscopes upright LV100DA UMicroscope motorisé avec éclairage épiscopique/diascopique, offrant un contrôle des objectifs et de l’intensité lumineuse ainsi qu’une détection de la méthode d’observation depuis l’unité de commande de la caméra.


Un microscope motorisé à éclairage épiscopique/diascopique, répondant aux différents besoins d’observation, d’inspection, de recherche et d’analyse de nombreux domaines industriels. Grâce à une ouverture numérique et une distance de travail sans précédent, ce microscope offre des performances optiques supérieures et une imagerie numérique ultra-efficace.


Taille max. de l’échantillon : 150 x 150 mm

 

Avantages

  • Boîtier modulaire adapté à différentes tâches et observations
  • La toute dernière gamme CFI60-2 offre des distances de travail exceptionnellement longues ainsi qu’une correction optimale des aberrations chromatiques
  • Imagerie numérique simple d’utilisation
 
Caractéristiques clés et avantages
 

 

Type de microscope

  • Modèles combinant lumière réfléchie et lumière transmise
  •  Motorisé
    (tourelle/intensité lumineuse/diaphragme d’ouverture/sélecteur de méthode d’observation)

Statif modulaire adapté à différentes tâches et observations

Compatible avec des observations fond clair, fond noir, polarisation simple, contraste interférentiel différentiel, épifluorescence et interférométrie à 2 faisceaux. Il est également possible de réaliser des observations en contraste interférentiel différentiel et en contraste de phase avec un éclairage diascopique.
Le boîtier permet des recherches, des analyses et des inspections de pointe dans des domaines extrêmement variés.

 

Méthodes d’observation compatibles :

nikon metrology industrial microscopes upright compatible observation methods LV100ND LV100DA U

*Choisissez la lentille adaptée à chaque observation


Platines compatibles

  • Platine LV-S32 3x2 (course : 75 x 50 mm avec plaque de verre)
    *Peut être équipée d’un porte-lame LV-S32SGH
  • Platine LV-S64 6x4 (course : 150 x 100 mm avec plaque de verre)
  • Platine rotative LV-SRP P
  • Platine 2 P-GS2 G (s’utilise avec l’adaptateur de platine LV-SAD)
  • Platine rotative en céramique à poignée droite Ni-U NIU-CSRR2 (course : 78 x 54 mm)
  • Platine à poignée droite C-SR2S (course : 78 x 54 mm : s’utilise avec un adaptateur de platine LV-SAD)

Nouvelle gamme CFI60-2

La toute dernière gamme CFI60-2 offre des distances de travail exceptionnellement longues ainsi qu’une correction optimale des aberrations chromatiques


La gamme CFI60-2 offre une ouverture numérique et des distances de travail encore jamais atteintes.

 

nikon metrology industrial microscopes upright Eclipse objectives for brightfield observation

Objectifs pour observations sur fond clair (épi)


Imagerie numérique simple d’utilisation

nikon metrology industrial microscopes upright digital imagingDès que l’objectif en cours d’utilisation est détecté, des informations relatives à celui-ci s’affichent sur l’unité de commande de la caméra. De plus, les informations sont automatiquement converties en données d’étalonnage adéquates au moindre changement de grossissement.

  • Système de caméra numérique pour microscopie Digital Sight Series
  • Logiciel de traitement d’image « NIS-Elements »
 
Spécifications
Boîtier : Hauteur maximale de l’échantillon : 38 mm (avec la tourelle LVNU5AI U5AI et la platine LV-S32 3x2 / LV-S64 6x4)
* 73 mm avec alimentation électrique interne 12V50W par colonne montante pour molettes de réglage micro et macrométrique et variateur
Gauche : mise au point micro et macrométrique/droite : mise au point micrométrique, course de 40 mm
Mise au point macrométrique : 14 mm/tour (avec réglage du couple, mémorisation du plan de mise au point)
Mise au point micrométrique : 0,1 mm/tour (1 µ/graduation)
Intervalles entre les trous de montage de la platine : 70 x 94 (platine fixée à l’aide de 4 vis M4)
Tourelles: C-N6 ESD Tourelle six positions - ESD, tourelle ESD universelle cinq positions LV-NU5, tourelle ESD cinq positions LV-NBD5 BD, tourelle ESD universelle intelligente cinq positions LV-NU5I
Éclairage épiscopique :

LV-UEPI-N

Source de lumière précentrée 12V50W LV-LH50PC avec bouton fond clair/fond noir et diaphragme d’ouverture (centrable) liée, diaphragme de champ (centrable) ; compatible avec filtres ø 25 mm (NCB11, ND16, ND4), polariseur/analyseur, plaque, compensateur de lumière d’excitation ; équipée d’un réducteur de bruit

LV-UEPI2

Source de lumière précentrée 12V50W LV-LH50PC, système d’éclairage précentré à fibre au mercure : C-HGFIE (avec contrôle de l’intensité lumineuse) ; *en option : bouton fond clair/fond noir et diaphragme d’ouverture (centrable) liée, diaphragme de champ (centrable), fonction de changement automatique d’élément optique liée au bouton fond clair, fond noir et épifluorescence ; compatible avec filtres ø 25 mm (NCB11, ND16, ND4), polariseur/analyseur, plaque λ, compensateur de lumière d’excitation ; équipée d’un réducteur de bruit
Têtes porte-oculaire : Tête trinoculaire ESD LV-TI3 (image redressée, champ de vision : 22/25)
Tête trinoculaire inclinable LV-TT2 TT2 (image redressée, champ de vision : 22/25)
Tête binoculaire C-TB (image inversée, champ de vision : 22)
Tête binoculaire P-TB (image inversée, champ de vision : 22)
Tête trinoculaire P-TT2 (image inversée, champ de vision : 22)
Platines: Platine LV-S32 3x2 (course : 75 x 50 mm avec plaque de verre) compatible ESD
Platine LV-S64 6x4 (course : 150 x 100 mm avec plaque de verre) compatible ESD
Platine LV-S6 6x6 (course : 150 x 150 mm) compatible ESD
Oculaires: Oculaires de la gamme CFI
Objectifs: Système optique CFI60-2/CFI60 pour les microscope industriel ; gamme d’objectifs : combinaisons de différents objectifs en fonction de la méthode d’observation employée
Performance de l’ESD : 1 000 à 10 V, en 0,2 s (hormis certains accessoires)
Consommation électrique :
1,2 A/75 W
Poids: Environ 8,6 kg
 
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The design of food packaging and films has become more complex in recent years. As design and manufacturing requirements for these films have become more complex, the need for faster, more accurate, and more highly automated inspection of these materials has also increased. 

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