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Eclipse LV-DAF - Le système de mise au point automatique pour les microscopes Eclipse LV et les applications OEM.

nikon metrology industrial microscopes upright Eclipse LV DAFLe système LV-DAF permet une mise au point automatique rapide et polyvalente grâce au système d' autofocus hybride. Issu de la combinaison de deux techniques de mise au point automatique, l'une par projection de fente et la seconde par détection du contraste, ce système s'applique sur un champ large avec une rapidité importante. Ce système supporte diverses méthodes d’observation, notamment l’observation en fond clair, fond noir et contraste interférentiel (DIC) y compris sur un certain nombre d'échantillons transparents.

Applications

  • Antennes
  • Télécommunication et électronique 
  • Optique
  • Téléphones portables, rasoirs et montre
 
Caractéristiques clés et avantages
 


Mise au point automatique hybride

Il existe deux types fréquents de systèmes de mise au point automatique pour les microscopes: par projection de fente et par détection du contraste.

Le système par projection de fente projette une image de la fente puis détecte le décalage dans la lumière reflétée. Ce système est utile lorsqu’une plage focale étendue est nécessaire.
Le système par détection du contraste projette un motif de la fente puis détecte le contraste de la lumière reflétée. Ce système est utile lorsqu'une grande précision de la mise au point est requise puisque ce système de mise au point automatique est moins affecté par les variations de surface de l’échantillon.

La mise au point automatique hybride combine les avantages des deux systèmes et tire le maximum de leurs potentiels.

 

nikon metrology industrial microscopes upright hybrid diag Eclipse LV DAF


Design

Le contrôleur est extrêmement compact et présente le même design que le LV-ECON permettant de les placer l'un sur l'autre.


Microscopes série LV

L’unité LV-DAF peut être combinée avec d’autres produits de la série LV. En combinaison avec le LV-ECON, elle permet d'observer dans des conditions optimales quelque soit l'échantillon.


Développement logiciel

Nikon fournit les SDK destiné à intégrer l’unité LV-DAF dans divers systèmes. (La compatibilité n’est garantie qu’avec les produits Nikon.)


Contrôle

L’unité LV-DAF peut être contrôlée à partir d'un ordinateur ou d'un système de caméra numérique DS-L2 via USB ou RS232C


Programme de réglage automatique

Le programme de réglage automatique, fourni de série, permet une configuration simple et rapide du système. Le programme réalise un réglage automatique immédiat dès que l’utilisateur met au point le système et appuie sur le bouton pour démarrer la configuration. Il est également possible de définir et d’enregistrer automatiquement les paramètres optimaux pour chaque type d’échantillon et de les rappeler ensuite en fonction de l’échantillon photographié.


Source d’éclairage à LED

Source d’éclairage à LEDL’unité LV-DAF utilise une LED pour parfaire la mise au point automatique. L'intensité lumineuse est réglée automatiquement en fonction de la mise au point de l'échantillon, ce qui permet de travailler avec des échantillons dont la réflectivité est de faible à élevée.


Méthodes d’observation multiples

L’unité est compatible avec une large gamme de méthodes d’observation, notamment en fond clair, fond noir et DIC. Les échantillons réfléchissants et les échantillons transparents sont également pris en charge.


Grande plage focale

La plage focale est remarquablement plus grande lorsque l’on utilise la détection du contraste seule. Cela signifie que les échantillons présentant des distorsions sur leur surface, tels que les cristaux liquides, peuvent être rapidement tracés, ce qui permet une mise au point rapide.

 
Spécifications
Detection system: Hybrid system combining slit projection with contrast detection
Auto-focus light source: Near-IR LED (λ = 770 nm)
Objective lens: CFI60 objective lens 2.5x-100x (includes extra-long working distance (ELWD), super-long working distance (SLWD), and CR for LCD substrate inspection)
Auto-focus modes: Continuous mode and search mode (single, continuous)
Focal range: Focal range without searching (brightfield)²
2.5x: 5.5 mm or more, 5x: 4.5 mm or more, 10x: 1.3 mm or more, 20x: 320 μm or more, 50x: 50 μm or more, 100x: 10 μm or more
Focal time: 0.7 seconds or less (20x: 200μm with no search)² ³
Focal precision (repeated reproducibility): 1/2 or less of focal depth² ³
AF offset feature: Enables observation with precise adjustment of focal position while applying auto-focus
Minimum driveresolution: 0.05 μm¹
External communication: RS232C, USB, and parallel I/O
Power source: 100-240 V AC, 1.0 A, 50/60 Hz

 

¹ Some limitations for 2.5x and 100x.
² Using Nikon’s standard Cr vapor deposition sample.
³ Using the LV-IMA or LV-FMA

 

Compensator: Standard 1/4 wave and tint plate: Quartz wedge or Senarmont compensator can be inserted into intermediate slot
 
Etudes de cas
Automated nikon photo-microscope supports world-leading rock analysis
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Founded in 1997, Conwy Valley Systems in North Wales has become a global leader in the supply of computerized photo-microscopy systems for inspection, statistical analysis and classification of rock samples to assist oil and gas exploration.

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