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Eclipse LV150NA - Digitale Bildgebung in Verbindung mit einer neuartigen Optik

nikon metrology industrial microscopes upright LV150NAEin Mikroskop in motorisierter Ausführung mit Objektivrevolver, das verschiedensten Anforderungen der Beobachtung, Prüfung, Forschung und Analyse in unterschiedlichsten Industriezweigen gerecht wird. Ein höheres Auflösungsvermögen und ein größerer Arbeitsabstand als je zuvor sind der Garant für eine überragende Leistungsfähigkeit des Optiksystems und effiziente digitale Bildgebung.

Max. Probengröße: 150 x 150 mm

Vorteile

  • Modular aufgebautes Mikroskop, geeignet für unterschiedlichste Beobachtungsverfahren und Einsatzbereiche
  • Die neuartige CFI60-2 Optik, eine Weiterentwicklung des legendären Optiksystems von Nikon, erzielt beste Ergebnisse in jeder Hinsicht – extrem lange Arbeitsabstände, chromatische Aberrationskorrektur  und Gewichtseinsparung
  • Einfache digitale Bildbearbeitung

Anwendungen

  • Flüssigkristallanzeigen (LCD)
  • Antennen
  • Oberflächenprüfung
  • Telekommunikation & Elektronik
  • MEMS
  • Metallurgie
  • Implantate/Prothesen
  • Verbundstoffe
  • Textilien
  • Optoelektronik
  • Metallfertigung
  • Mikroelektronik
  • Wafer
  • Teleskopoptiken
  • Mobiltelefone, Rasierapparate und Uhren
 
Vorteile und Merkmale
 

Mikroskoptyp

  • Modelle mit Auflichtbeleuchtung
  • Motorisierte Ausführung (Objektivrevolver))

Kompatible Objekttische

  • LV-S32 3x2 Objekttisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte)
    *Kann mit LV-S32SPL ESD-Platte ergänzt werden
  •  LV-S6 6x6 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 150 mm)
    *Kann mit LV-S6WH Waferhalterung ergänzt werden / LV-S6PL ESD-Platte
  • LV-SRP P Drehbarer Objekttisch
  • P-GS2 G Objekttisch 2 (zusammen mit Tischadapter LV-SAD)

Neu entwickeltes CFI60-2 Optiksystem

Die neue CFI60-2 Optik, eine Weiterentwicklung des legendären Optiksystems von Nikon, erzielt beste Ergebnisse in jeder Hinsicht – extrem lange Arbeitsabstände, chromatische Aberrationskorrektur und Gewichtseinsparung

Das CFI60-2 Optiksystem bietet ein bisher unerreichtes Auflösungsvermögen und längere Arbeitsabstände.

 

nikon metrology industrial microscopes upright Eclipse objectives for brightfield observation

Objektive für Hellfeldbeobachtungen (Auflicht)


Modular aufgebautes Mikroskop, geeignet für unterschiedlichste Beobachtungsverfahren

Geeignet für zahlreiche Beobachtungsverfahren: Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation, Differential-Interferenz, Auflicht-Fluoreszenz und Zweistrahl-Interferometrie.
Unterstützt diverse Anwendungen der neuesten Forschung, Analyse und Qualitätsprüfung.

Kompatible Beobachtungsverfahren:

nikon metrology industrial microscopes upright LV150N observation methods de

 


Einfache digitale Bildbearbeitung

nikon metrology industrial microscopes upright digital imaging deInformationen über das gerade im Einsatz befindliche Objektiv werden erfasst und über die Steuerung der Digitalkamera angezeigt. Darüber hinaus werden die Informationen bei einem Wechsel der Vergrößerungsposition automatisch in die richtigen Kalibrierdaten konvertiert.

  • Digitalkamerasystem der „Digital Sight“ (DS) Serie für die Mikroskopie
  • Bildgebungssoftware NIS-Element
 
Technische Daten
Grundstativ Maximale Probenhöhe: 38 mm (bei Verwendung mit LVNU5AI U5AI Objektivrevolver und LV-S32 3x2 Objekttisch / LV-S64 6x4 Objekttisch)
 * 73 mm, bei Verwendung mit Erhöhungsmodul interne 12V/50W Stromversorgung für Dimmer, Grob- und Feintriebe
Links: Grob- und Feintrieb / Rechts: Feintrieb, 40 mm Verfahrweg   
Grobtrieb: 14 mm/Umdrehung (mit Friktion, Schärfenregler)
Feintrieb: 0,1 mm/Umdrehung (1 μm/Abstandsteilung)
Lochabstände Tischaufnahme: 70 x 94 (Befestigung durch 4-M4 Schraube
Objektivrevolver LV-NU5A Motorisierter universeller
5-fach Objektivrevolver ESD
LV-NU5AC Motorisierter universeller
5-fach Objektivrevolver ESD
Auflichtbeleuchtung

LV-UEPI-N
LV-LH50PC 12V/50W Vorzentriertes Lampenhaus Hell-/Dunkelfeld-Umschalter und angeschlossene Aperturblende (zentrierbar), Feldblende (zentrierbar) Geeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4), Polarisator/Analysator, λ Platte, Light Balancer; inkl. Rauschunterdrückung

LV-UEPI2
LV-LH50PC 12V/50W Vorzentriertes Lampenhaus HG vorzentrierte Faserbeleuchtung: C-HGFIE (mit Lichtkorrektur) *optional Hell-/Dunkelfeldumschalter und angeschlossene Aperturblende (zentrierbar), Feldblende (zentrierbar), Funktion zum automatischen Wechsel der optischen Komponente im Hellfeld-, Dunkelfeld- und Auflicht-Fluoreszenzkontrast Geeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4), Polarisator/Analysator, λ Platte, Light Balancer; inkl. Rauschunterdrückung

Okulartuben LV-TI3 Trinokulartubus ESD (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25)
LV-TT2 TT2 geneigter Trinokulartubus (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25)
C-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)
P-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)
P-TT2 Trinokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)
Objekttische LV-S32 3x2 Objekttisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte) ESD kompatibel
LV-S64 6x4 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 100 mm mit Glasplatte) ESD kompatibel
LV-S6 6x6 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 150 mm) ESD kompatibel
Okulare CFI Okularserie
Objektive Industriemikroskop CFI60-2/CFI60 Optiksystem Objektivserie: Konfiguration entsprechend dem Beobachtungsverfahren
Elektrostatische Abfallzeit 1.000 bis 10 V, innerhalb von 0,2 s (ohne Sonderzubehör)
Stromverbrauch 1,2A/75W
Gewicht Ca. 8,6kg
 
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Industrielle Anwendungen
 
 

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