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Eclipse L200N Baureihe – IC Industrie Mikroskope

nikon metrology industrial microscopes upright Eclipse L200N seriesMit CFI60-Optik für fehlerfreie Wafer- und Maskenprüfung (200mm-Wafer).
Kombiniert mit Nikons innovativem optischen System CFI60 LU/L und einem außergewöhnlichen neuen Beleuchtungssystem, bietet dieses Mikroskop kontrastreichere Bilder, ein hohes Auflösungsvermögen und drei Mal hellere Dunkelfeldbilder als zuvor. Ob eigenständig oder in Verbindung mit einem Wafer-Loader: die Modellreihe L200 ermöglicht außerordentlich präzise optische Prüfungen von Wafern, Fotomasken, Strichplatten und anderen Substraten.

Anwendungen

  • Antennen
  • Telekommunikation und Electronik
  • Wafer
  • Teleskopoptiken
  • Mobiltelefone, Rasierapparate und Uhren

 

 
Vorteile und Merkmale
 

2 Modelle zur Auswahl

L200: Mikroskopsysteme für die Wafer- und Maskenprüfung (200mm-Wafer) für die Fehlererkennung mit Auflicht.

L200ND: Das ausgereifteste Modell. Mit Durchlicht-Funktionen, die sich ideal für die LCD- und Maskeninspektion eignen.


Schutz vor Verunreinigungen

Die Mikroskope sind zum Schutz vor elektrostatischer Entladung spezialbeschichtet und verhindern das Anhaften von Fremdpartikeln am Mikroskop. Außerdem hat der Objektivrevolver einen abgeschirmten Motor, der Fremdpartikel fängt und die Verunreinigung der Proben ausschließt.


Leistungsstarke Halogenbeleuchtung

Die leistungsstarke 12V-50W-Halogenbeleuchtung (LV-LH50PC) strahlt mehr Helligkeit als die herkömmliche 12V/100W-Beleuchtung ab und verbraucht dabei nur halb so viel Energie. Da das Lampenhaus mit einem Rückspiegel ausgestattet ist und die Größe des Glühwendels optimiert wurde, profitieren die Anwender von einer effektiven und gleichmäßigen Ausleuchtung auf der Pupillenebene - eine wichtige Voraussetzung optischer Systeme.


Optimierte DIC-Mikroskopie

Nikon CFI-LU-Plan-Objektive ermöglichen zahlreiche Beobachtungsmethoden mit einem einzigen Objektiv, einschließlich Hellfeld-, Dunkelfeld- und Nomarski-DIC-Mikroskopie. Für die DIC-Mikroskopie setzen Sie einfach ein Nomarski-Prisma in den Objektivrevolver ein, das alle Vergrößerungsbereiche umschließt.


Aufbau nach SEMI S2-0200 und S8-0600

In Übereinstimmung mit den SEMI-Anforderungen sind alle Bedienelemente und Knöpfe niedrig und bedienernah angeordnet, während der Einblick auf komfortable Probenbeobachtung eingestellt wird. Bedienelemente am Mikroskopfuß erfordern nur minimale Handbewegungen. Der Bediener kann sich voll auf die Prüfaufgabe konzentrieren. Das Okular kann näher an den Bediener herangeführt werden und ermöglicht eine aufrechtere Haltung. Der vergrößerte Abstand zwischen Bediener und Objekttisch gewährleistet eine ergonomische, sichere Beobachtungsposition.


Okulartubus mit variabler Okularposition

Der Okulartubus mit variabler Okularposition ermöglicht die stufenlose Verstellung des Neigungswinkels zwischen 0° und 30° und gewährleistet eine optimale Einblickhöh. Das Okular ist in Ultra-Weitwinkel-Bauweise mit 25mm-Sichtfeld konzipiert.


Fixierte X-Y-Feinsteuerung

Die X-Y-Feinsteuerung bleibt konstant in Bedienernähe. Ungeachtet der Position des Objekttisches kann eine komfortable Beobachtungshaltung eingenommen werden. Darüber hinaus sind diese Bedienelemente und der Fokussierknopf in unmittelbarer Nähe zueinander angeordnet und können mit einer Hand bedient werden.


Motorbetriebener Objektivrevolver mit Steuerungssoftware

nikon metrology industrial microscopes upright motorized nosepiece L200NDie Eclipse L200N ist mit einem eingebauten motorbetriebenen Objektivrevolver ausgestattet, der über einen Steckplatz für DIC-Zubehör verfügt. Neben der mechanischen Rasterung wird der Objektivrevolver über Software gesteuert und kann bei jeder Objektivstellung präzise gestoppt werden. Erhöhte Präzision sorgt gleichzeitig für eine erheblich längere Lebensdauer des Objektivrevolvers. Zum Schutz der Augen des Bedieners wird beim Drehen des Objektivrevolvers die Beleuchtung kurz unterbrochen.


CFI60-Optik

Außerordentlich klare und scharfe Bilder, größere Arbeitsabstände, eine hohe numerische Apertur (NA) und minimales Streulicht. Bei Dunkelfeldbeobachtungen fällt das Signal-zu-Untergrund-Verhältnis drei Mal besser aus als zuvor und ermöglicht kontrastreiche Bilder für hochpräzise Beobachtungen.


Vibrationsdämpfung

Durch den Einsatz computergestützter Engineeringverfahren (CAE) konnte Nikon die Stabilität der L200-Reihe erheblich verbessern. Im Vergleich zu konventionellen Geräten ist die Empfindlichkeit dieser Mikroskope gegenüber Fundamentvibrationen um das Dreifache reduziert. Dies mindert selbst bei Beobachtungen mit hohen Vergrößerungsstufen das Risiko unerwünschter Unschärfen oder Bildverschiebungen. Das innovative Design sorgt nicht nur für erhöhte Stabilität, sondern verkleinert auch die Stellfläche.

 
Technische Daten
Grundkörper Eingebaute Auflichtbeleuchtung und Stromquellen für die motorbetriebene Steuerung; Objektivrevolver mit Motorsteuerung; Helligkeitsregelung; Steuerung der Aperturblende
Fokussierung Katzfahrt: 29mm; grob: 12,7mm pro Umdrehung (einstellbare Gängigkeit, integrierte Refokussiermechanismen); fein: 0,1mm pro Umdrehung (in 1µm-Schritten)
Auflichtbeleuchtung Eingebaute12V/100W-Halogenleuchte; motorbetriebene Aperturblende (zentrierbar); feste Feldblende (mit Fokussierziel); Einbau eines optionalen Aperturblendenschieber möglich; vier montierbare 25mm-Filter (NCB11/ND4/ND16/GIF); Polarisator; Analysator
Objektivrevolver Fixierter motorbetriebener 6-fach-Universal-Objektivrevolver; Steckplatz für DIC-Zubehör
Okulartubus Trinokularer Okulartubus mit variabler Ultraweitwinkelstellung L2TT (Neigungswinkel 0-30°, aufrechtes Bild); Sichtfeld: 25mm; Strahlengangwechsel: wechselseitig (Binokular: Foto 100:0/0:100)
Objekttisch 8 x 8-Objekttisch; Hub: 205 x 205mm; Wechsel von Grob- auf Feintrieb möglich; fixierte X-Y-Feinsteuerungen
Okulare Okularlinsen der CFI-Reihe
Objektive CFI60 LU/L Plan Baureihe
Gewicht 43,75 kg bei einem 8 x 8-Objekttisch und L2TT Okulartubus
Konformität SEMI S2-93A, S8-95, CE, UL
 
Prospekte
L200N-L300ND
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Industrielle Anwendungen
 

Prospekte

L200N-L300ND
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