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BW-Baureihe: Berührungslose, präzise Messung von Oberflächenprofilen im Subnanobereich.

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope BW SeriesDie von Nikon entwickelte optische Interferenzmesstechnik mit Scanningfunktion erzielt eine Höhenauflösung von 1 Pikometer (pm). Nikon bietet verschiedenste optische Mikroskope als Messsysteme an, die für zahlreiche Messanwendungen eingesetzt werden können.

 
Vorteile und Merkmale
 

Überragende Messleistung

  • Messungen im 0,1 nm-Bereich an extrem glatten Oberflächen und ohne Anwendung von Mittelwert- oder Filterverfahren.
  • Messungen mit unveränderter Höhenauflösung in einem weiten Vergrößerungsbereich.
  • Messungen an glatten und rauen Oberflächen, ohne Änderung der Messart oder optische Filter.
  • Abbildung von gleichmäßig tiefenscharfen Bildern und Oberflächentopografien.

Vielfältige Beobachtungsverfahren

Das System kann als optisches Mikroskop eingesetzt werden. Verschiedene Beobachtungsverfahren wie Hellfeld, Polarisation, DIC und Fluoreszenz sind möglich.


SiC Wafer: Messungen im Subnanobereich in zahlreichen Vergrößerungsstufen

Typ: BW-D501 System
Objekt:
Siliziumkarbid (SiC) Wafer

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 2 5x BW Series

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 5x BW Series

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 10x BW Series

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 20x BW Series

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 50x BW Series

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Silicon Carbide SiC Wafer 100x BW Series


Nano-Messung einer Rasierklinge mit stark vergrößerndem Objektiv

Objekt: Rasierklinge

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope razor edge BW Series


Oberflächenrauheit von Papier (synthetisch, normal, glanz, matt)

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Surface roughness of synthetic paper BW SeriesOberflächenrauheit von synthetischem Papier
nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Surface roughness of gloss paper BW SeriesOberflächenrauheit von Glanzpapier
nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Surface roughness of plain paper BW SeriesOberflächenrauheit von Normalpapier
nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Surface roughness of matte paper BW SeriesOberflächenrauheit von mattem Papier
 


Oberflächenrauheit von Keramik

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Surface roughness of ceramics BW Series


Präzise Messung von Oberflächenrauheit im Mikrometerbereich

Typ: BW-A501 System
Objekt: Membran eines synthetischen Diamanten, der in einem plasma-unterstützten CVD-Verfahren hergestellt wurde
Fotos mit freundlicher Genehmigung von: Ph.D. Hiromichi Toyota, Ehime University Graduate School of Science and Engineering

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Precise surface measurement BW Series

 


Halbleiterbauteile: Messungen im Mikrometerbereich in zahlreichen Vergrößerungsstufen

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope IC Package Micrometer range measurement in a wide range of magnifications BW Series


Höhenkalibrierung mit einem NIST-zertifizierten Normal der Firma VLSI Standards

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope Certificate of calibration BW Series


BW-D501 System

nikon metrology industrial microscopes white light interferometric microscope BW D501 system BW Series

 
Technische Daten

 

 

Hochauflösende Variante

BW-S501

BW-S502

BW-S503

BW-S505

BW-S506

BW-S507

Optisches Messsystem

Fokusvariation mit Weißlichtinterferometrie (FVWLI)

Höhenauflösung (Algorithmus)

1 pm (0,001 nm)

Reproduzierbarkeit der Stufenhöhenmessung

σ: 8 nm/8 m Stufenhöhenmessung

Pixelanzahl

2046 × 2046, 1022 × 1022 (Auswahl über die Software)

Dauer der Höhenmessung

38 s, 16 s / 10 μm Scan

Höhenmessbereich

< 90 μm

< 20 mm

< 90 μm

< 20 mm

Messfeldgröße (bei 2,5x Vergr.)

< 4448 x 4448 μm*

Piezo-Antrieb

Motorisiertes Objektiv

Motorisierter Objektivrevolver

Z-Achse 

Manuell

Elektrisch

Manuell

Elektrisch

XY-Achse

Manuell

Elektrisch

Manuell

Elektrisch

Software

Bridgelements® Softwaremodule

 

 

High-Speed-Variante

BW-D501

BW-D502

BW-D503

BW-D505

BW-D506

BW-D507

Optisches Messsystem

Fokusvariation mit Weißlichtinterferometrie (FVWLI)

Höhenauflösung (Algorithmus)

1 pm (0,001 nm)

Reproduzierbarkeit der Stufenhöhenmessung

σ 8 nm/8 m Stufenhöhenmessung

Pixelanzahl

510x510

Dauer der Höhenmessung 

4 Sek / 10 μm Scan

Höhenmessbereich

< 90 μm

< 20 mm

< 90 μm

< 20 mm

Messfeldgröße

< 2015 x 2015 μm *

Piezo-Antrieb

Motorisiertes Objektiv

Motorisierter Objektivrevolver

Z-Achse 

Manuell

Elektrisch

Manuell

Elektrisch

XY-Achse

Manuell

Elektrisch

Manuell

Elektrisch

Software

Bridgelements® Softwaremodule


* Der Anzeigebereich kann durch Änderung der Relaisoptik oder Nutzung der Stitching-Funktion erweitert werden.

 
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BW-Series
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39, rue du Bois Chaland
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Email: Sales.France.NM@nikon.com
Website: www.nikonmetrology.com
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Surface measurements with picometer resolution
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